Scientific journal
Modern high technologies
ISSN 1812-7320
"Перечень" ВАК
ИФ РИНЦ = 1,279

ANALYTICAL DETERMINATION OF SURFACE ROUGHNESS PARAMETERS DURING ANODIC-ABRASIVE POLISHING OF WAVEGUIDE CHANNELS OF SMALL CROSS-SECTION

Trifanov V.I. 1, Sukhanova O.A. 2, Karelina E.A. 2, Shestakov I.Y. 2
1 Bauman Moscow State Technical University
2 Federal State Budgetary Educational Institution of Higher Education Siberian State University of Science and Technology named after M. F. Reshetneva
The problem of reducing and leveling the surface roughness of small-section pipe channels by anodic-abrasive polishing is considered (AAP). The production of channels of pipes of small cross-section by drawing leads to uneven surface roughness in the transverse direction Ra = 0.24 microns, in the longitudinal direction Ra = 0.16 microns, which requires reducing and leveling the roughness. The subject of the study is the analytical determination of the influence of the parameters of anodic-abrasive polishing on the reduction of the surface roughness of the channels of pipes of small cross-section. Anodic-abrasive polishing of the treated surface is carried out with the combined abrasive and anodic action of pulsed current on the micro-roughness of the surface. When an elastic abrasive-bearing cathode-tool (EACT) made of synthetic rubber mixed with an abrasive of electrocorundum with a grain size of 40-28 microns and a cathode made of graphite vibrates, a traveling pulsed electric field is created and an abrasive removal of an oxide film with a thickness of 0.01 microns with micro-dimensions of the treated surface in a flowing electrolyte of 15 % NaNO3. At the same time, the degree of localization of the anodic dissolution of micro-dimensions increases while maintaining the initial accuracy of the channel ± 0.02 mm and removing the minimum allowance. For the study, the scheme of anodic-abrasive polishing, analytical dependences of AAP, as well as a formula for assessing surface roughness are used.
anode-abrasive polishing
current density
current pulse duty cycle
abrasive polishing

Актуальной проблемой является снижение и выравнивание шероховатости поверхности каналов труб малого сечения после их изготовления волочением или деформирующим протягиванием.

Целью настоящей работы является получение и анализ формулы для расчета снижения и выравнивания шероховатости обрабатываемой поверхности каналов при анодно-абразивном полировании (ААП).

Материалы и методы исследования

В настоящей работе при рассмотрении уменьшения и выравнивания шероховатости поверхности анодно-абразивным полированием исследуется зависимость установившейся шероховатости в процессе анодного растворения микронеровностей бегущим импульсным электрическим током в проточном пассивирующем электролите 15 % NaNO3, а также формирование шероховатости поверхности за счет удаления оксидной пленки абразивными зернами эластичного абразивонесущего катода-инструмента (ЭАКИ).

На основе указанных исследований получена формула для оценки шероховатости поверхности при анодно-абразивном полировании каналов труб малого сечения, выполненных из сплава 32НКД.

Для уменьшения и выравнивания шероховатости поверхности каналов малого сечения, например 7х4 мм, 5х3 мм, может быть применен метод анодно-абразивного полирования (АПП) импульсным током [1]. Анодно-абразивное полирование [2] представляет собой совмещенный процесс анодного растворения микронеровностей под действием импульсного электрического тока в пассивирующем проточном электролите 6–15 % NaNO3, при одновременной активации гребешков микронеровностей путем удаления пассивирующей анодной пленки толщиной 0,01–0,1 мкм абразивонесущей частью эластичного катода – инструмента (АЭКИ) путем колебания его с частотой 20–50 Гц с перемещением в продольном направлении со скоростью 60–120 мм/мин. При этом создается бегущее импульсное электрическое поле на обрабатываемой поверхности с импульсным напряжением U(t) [2–4]:

missing image file, (1)

где Тс – постоянная времени спада, с; Un – напряжение на электродах от источников постоянного тока, В; tu – длительность импульса напряжения, с.

Величина среднего импульса тока Itu, создаваемого импульсным напряжением U(t), может быть определена по формуле

missing image file (2)

где missing image file – кривая тока от времени в импульсе; I0 – максимальный ток в импульсе; Тс – постоянная времени спада тока в импульсе.

Применение импульсного тока позволяет повысить степень локализации анодного растворения микронеровностей, стабилизировать параметры электролита в межэлектродном зазоре, обеспечить сохранение исходной точности и формирование равномерной шероховатости поверхности по длине обрабатываемого канала [3].

На степень локализации при анодном растворении микронеровностей влияют различное распределение на микровыступах и микровпадинах плотности тока, выхода по току, эффективной электропроводности электролита, а также величина межэлектродного зазора. В пассивирующем электролите 15 % NaNO3 падение напряжения на микровыступах ΔUm может составлять до 1,7 В, а на микровпадинах ΔUd – до 2,8 В в зависимости от марки обрабатываемого материала, высоты и профиля микронеровностей, а также пассивационных процессов. Плотность тока на микровыступах и микровпадинах может отличаться в 8 раз [3]. При этом для получения требуемой шероховатости поверхности необходимо знать минимальный удаляемый припуск Zmin в зависимости от исходной и конечной шероховатости поверхности. Минимальный удаляемый припуск Zmin определяют по формуле

missing image file, (3)

где δ0 – начальный межэлектродный зазор, мм; Rисх, Rк – соответственно исходная и конечная шероховатости поверхности, мкм, kz – коэффициент, учитывающий механизм ААП и вид обрабатываемого материала, (kz = 0,1–0,15).

Уменьшение шероховатости поверхности при анодном удалении припуска следует оценивать с учетом коэффициента локализации Кl, который зависит от условий электрохимического растворения микровыступов и микровпадин обрабатываемой поверхности.

Коэффициент локализации можно определить по формуле (4)

missing image file, (4)

где εm, εd – электрохимический эквивалент растворения металла на микронеровностях и во впадинах обрабатываемой поверхности; γm, γd – плотность продуктов растворения на микронеровностях и во впадинах; tu – длительность импульса тока; im, id – плотности тока на микронеровностях и во впадинах; Zmin – величина минимального удаляемого припуска; Кi – коэффициент, учитывающий условия электрохимической обработки, Кi = 8-10; ΔR – изменение шероховатости поверхности, ΔR = Rисх – Rуст.

Необходимо отметить, что отношение плотностей тока id / im в процессе выравнивания шероховатости поверхности и изменения угла профиля микронеровностей может существенно изменяться и влиять на локализацию процесса анодного растворения. Высокую роль при этом играют частота и амплитуда импульсного напряжения U, скважность импульсов тока S, соотношение длительности импульсов tu и паузы tn [4–6].

Скважность следования импульсов напряжения и тока S рассчитывают по формуле

S =Tu / tn , (5)

где Ти – период импульсов напряжения и тока.

Импульсы напряжения с прямым передним фронтом, что экспериментально подтверждено [7], свидетельствуют об активации гребешков микронеровностей абразивонесущей поверхностью эластичного катода-инструмента (рис. 1).

missing image file

Рис. 1. Изменение импульсного напряжения Ua = 6В в межэлектродном промежутке при ААП сплава 32НКД с режимами: А = 15–17 мм, f = 20 Гц, tu = 3 мс

Установившуюся шероховатость поверхности от величины снимаемого слоя металла электрохимическим способом при средней плотности тока ic и среднем напряжении Uc на электродах, можно определить с учетом коэффициента локализации и скважности импульсов тока по формуле [8]:

missing image file

missing image file, мкм (6)

где Uc – среднее напряжение на электродах, В; ΔU – среднее падение напряжения в приэлектродных слоях, равное алгебраической сумме падений напряжений в прикатодных слоях, В; χ – удельная проводимость электролита, 1/см∙Ом; δмэз – величина межэлектродного зазора, см; T0 – время анодно-абразивной обработки, с; Кl – коэффициент локализации процесса анодного растворения; S – скважность импульсов тока.

Удаление оксидной пленки с гребешков и активация микронеровностей обрабатываемой поверхности при ААП осуществляется абразивными зернами ЭАКИ, совершающим продольные колебания с амплитудой А = 15–17 мм, частотой 20–50 Гц, длительностью импульсов тока tи = 3 мс. Сила Ра, прижимающая зерно абразива, возникает за счет упруго-восстановительной силы эластичного абразивонесущего катода-инструмента, перемещающегося навстречу потоку электролита.

Схема процесса взаимодействия единичного зерна с микронеровностями при ААП показана на рис. 2 [9].

Мощность абразивного резания Nр можно оценить по формуле

Np = Mp ∙ ω, (Н∙м)/с, (7)

где ω – частота продольных колебаний АЭКИ, 1/с; Mp – момент резания, Н∙м.

Момент резания Mp рассчитывался по формуле

Mp = Pp ∙ r, H ∙ м, (8)

где Pp – сила резания, r – радиус абразивного зерна.

Используя модель взаимодействия единичного зерна с упругопластичным материалом, силу Pp можно представить [10–12]:

Pp = Pa ∙ f ∙ Su , H, (9)

где Pа – сила давления на зерно, H/мм2; Su – площадь абразивонесущего катода-инструмента; f – коэффициент трения.

Подставив выражение (9) в формулу (8), получим

Mp = Pa ∙ f ∙ Su ∙ r , H∙м. (10)

С учетом выражения (9) Nр согласно формуле (10) можно представить в виде

Nр = Pa ∙ f ∙ Su ∙ r ∙ ω, (Н∙м)/с. (11)

Отклонение профиля установившейся шероховатости обрабатываемой поверхности после n циклов абразивного полирования определяется по формуле

missing image file, (12)

где hmax – максимальная глубина внедрения абразивного зерна в обрабатываемую поверхность, м; W – плотность распределения абразива по обрабатываемой поверхности, 1/м2; ky – коэффициент, зависящий от упругопластических свойств обрабатываемой поверхности, kу = σT / E; A – амплитуда колебаний абразивонесущего катода-инструмента, м.

missing image file

Рис. 2. Схема процесса контактного взаимодействия единичного зерна абразива и катода АЭКИ с микронеровностями обрабатываемой поверхности при ААП: 1 – микронеровности обрабатываемой поверхности; 2 – абразивное зерно эластичного абразивонесущего инструмента; 3 – катод-инструмент; 4 – силовые линии электрического поля; 5 – пассивирующая оксидная пленка; α и β – передний угол и угол резания в точке контакта К; ri – радиус скругления вершины зерна; δМЭЗ – величина межэлектродного зазора; h – глубина внедрения вершины абразивного зерна; Ра – прижимающая сила зерно абразива; Fт – сила трения; Р – нормальная сила, действующая на абразивное зерно; А, ω – амплитуда и частота колебаний ЭАИ; Vu – линейная скорость перемещения ЭАИ; Wel – скорость прокачки электролита 15 % NaNO3

Для ААП при удалении пассивных пленок вместо hmax в формуле (12) целесообразно использовать среднюю глубину hcp внедрения зерна за одну секунду в обрабатываемую поверхность, которую можно рассчитать по формуле для абразивонесущего АЭКИ:

missing image file, (13)

где Nр – мощность абразивного резания микронеровностей единичного зерна, H∙м/с; Hv – твердость обрабатываемого металла по Виккерсу, МПа; d – диаметр абразивного зерна, мкм.

Подставив (13) в (12), получим формулу для расчета установившейся шероховатости в течение 1 с [10, 11]:

missing image file (14)

или

missing image file, (15)

где T0 – время анодно-абразивной обработки, с.

Результаты исследования и их обсуждение

С учетом формул (6), (15) можно получить формулу (16) для оценки шероховатости поверхности после ААП:

missing image file, (16)

где Ran – установившаяся шероховатость; Raисх – исходная шероховатость поверхности, cм; η – выход металла по току; i – плотность тока, А/см2; εv – объемный электрохимический эквивалент обрабатываемого металла, см3/А*мин; ky – коэффициент, зависящий от упруго-пластических свойств обрабатываемой поверхности, kу = σT / E; ω – частота продольных колебаний АЭКИ, 1/с; W – плотность распределения абразива АЭКИ, 1/мм2; A – амплитуда колебания АЭКИ; Ра – нормальное давление, действующее на абразивонесущую часть АЭКИ, Н/мм2; Su – площадь абразивной части АЭКИ, мм2; f – коэффициент трения при ААП; r – радиус при вершине абразивного зерна, мм; d – диаметр абразивного зерна, мм; Hv – твердость обрабатываемого материала, Н/мм2; Кl – коэффициент локализации процесса анодного растворения; 8 – коэффициент перевода высоты выступов в параметр Ra; Т0 – время обработки, с; S – скважность импульсов тока.

Для расчета шероховатости обрабатываемой поверхности при ААП были использованы исходные данные, представленные в таблице.

Исходные данные для расчета по формуле (16) шероховатости поверхности при анодно-абразивном микрополировании каналов волноводов, выполненных из сплава 32НКД

Электрические параметры для расчета электрохимической обработки при ААП

Механо-абразивные параметры для расчета абразивного удаления оксидной пленки при ААП

εv = 0,00134 см3/А∙мин;

А = 17 мм; t = 30 с;

S = 16,63;

электролит15 % NaNO3;

KL = 0,09; i = 15 А/см2; η = 0,4

Hv = 438 н/мм2;

fтр = 0,15; ω = 20 Гц;

А = 17 мм; d = 0,040 мм;

Т0 = 30 с; Su = 216 мм2; ri = 1∙10–3 мм;

W = 2,5∙105 1/мм2;

Ра = 5 Н/мм2;

kу = 2,08∙10–3

Расчетная величина снимаемого припуска сплава 32НКД при удалении оксидной пленки абразивонесущим катодом-инструментом составила 0,14 мкм. Экспериментально установлено, что исходная обрабатываемая поверхность канала из сплава 32 НКД поперек канала была Raисх = 0,24 мкм, после ААП Raк = 0,12 мкм; вдоль канала была Raисх = 0,16 мкм, после ААП Raк = 0,10 мкм. Изменение шероховатости поверхности вдоль канала равно 0,06 мкм при средней плотности тока ic = 15 А/см2. Изменение шероховатости по формуле (16) равно 0,0452 мкм, что составляет 25 % от измеренного значения. При выходе по току равным 0,6 при ic = 20 А/см2 несовпадение составит 10 %. Диапазон изменения выхода по току небольшой, поэтому регулировать шероховатость поверхности нужно плотностью тока.

Заключение

Проведен теоретический анализ анодно-абразивного полирования каналов малого сечения. Полученная формула позволяет рассчитать снижение шероховатости поверхности в зависимости от режимов и условий анодно-абразивного полирования. Наибольшее влияние на шероховатость поверхности при ААП оказывает частота продольных колебаний АЭКИ, плотность тока и выход по току. Погрешность при оценке изменения шероховатости поверхности зависит от плотности тока.


Библиографическая ссылка

Трифанов В.И., Суханова О.А., Карелина Е.А., Шестаков И.Я. АНАЛИТИЧЕСКОЕ ОПРЕДЕЛЕНИЕ ПАРАМЕТРОВ ШЕРОХОВАТОСТИ ПОВЕРХНОСТИ ПРИ АНОДНО-АБРАЗИВНОМ ПОЛИРОВАНИИ КАНАЛОВ ВОЛНОВОДОВ МАЛОГО СЕЧЕНИЯ // Современные наукоемкие технологии. 2022. № 8. С. 77-81;
URL: https://top-technologies.ru/en/article/view?id=39270 (дата обращения: 27.06.2026).
DOI: https://doi.org/10.17513/snt.39270