В целях интенсификации процесса химической металлизации, модификации свойств металлического покрытия и улучшения качества готовых изделий авторами предложен способ осаждения тонкослойных покрытий в присутствии наиболее прогрессивных технологических продуктов - поверхностно-активных веществ (ПАВ). Процесс технологичен, высокопроизводителен, не требует сложного оборудования. Разработан способ осаждения тонких (до 1 мкм) слоев металла (медь, никель, кобальт), отличающихся равномерностью и сплошностью покрытия, прочностью сцепления с основой, возможно получать двойные и тройные сплавы типа никель-фосфор, никель-фосфор-кобальт и др. и в широких пределах регулировать проводимость. Согласно разработанной технологии можно получать магнитные и немагнитные металлические покрытия на диэлектрических материалах любой природы и формы. Особенностью разработанного способа получения тонкослойных металлических покрытий на диэлектрических материалах является использование на всех стадиях процесса катионных ПАВ. Разработаны физико-химические основы применения ПАВ в химической металлизации, установлены основные закономерности влияния ПАВ на факторы, определяющие процесс металлизации: скорость осаждения покрытий, их состав и свойства, оптимизированы технологические параметры осаждения покрытий, получены экспериментальные образцы металлизированных материалов.
Работа выполнена при финансовой поддержке гранта РФФИ 04-03-96705 и Администрации Тверской области.
Библиографическая ссылка
Ворончихина Л.И., Рыжкова Н.И., Андриевская Н.В., Иванова Н.А. МЕТАЛЛИЗИРОВАННЫЕ ДИЭЛЕКТРИЧЕСКИЕ МАТЕРИАЛЫ // Современные наукоемкие технологии. – 2004. – № 4. – С. 87-87;URL: https://top-technologies.ru/ru/article/view?id=21918 (дата обращения: 19.04.2024).