Результаты спектральных исследований процесса реактивного ионно-плазменного травления InP в углеродсодержащих плазмообразующих газах показывают, что адсорбция химически активных частиц на обрабатываемой поверхности не является лимитирующей стадией процесса травления. Стадией ограничивающей скорость травления является стадия десорбции продуктов химических реакций при травлении. Увеличить скорость удаления продуктов реакции, в связи с этим, возможно за счет термической десорбции и ионной бомбардировки обрабатываемой поверхности.
В докладе анализируются принципы физической реализации в плазмохимическом реакторе условий, при которых выполняются названные требования, в частности, влияние подогрева подложкодержателя и подача на него электрического смещения на скорость травления.